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台式高质量多功能薄膜磁控溅射系统

仪器编号:20106106-9015

联系方式:18680367989

放置地点:云谷校区E10-138

开放范围:校内/校外

自主操作 送样检测

实验室:综合物性实验室

职位:无

邮箱:yangzhen@westlake.edu.cn

仪器编号 20106106-9015 联系方式 18680367989
放置地点 云谷校区E10-138 开放范围 校内/校外
自主操作 https://share.westlake.edu.cn/lims/!equipments/equipment/index.808.records 送样检测 https://share.westlake.edu.cn/lims/!equipments/equipment/index.808.sample
实验室 综合物性实验室 职位
邮箱 yangzhen@westlake.edu.cn
  • 仪器详细信息
  • 技术资料
  • 收费标准
仪器编号 20106106-9015 规格
生产厂家 英国 型号 nanoPVD-S10A
制造国家 英国 分类号 120399
放置地点 云谷校区E10-138 出厂日期 2022/09/29
购置日期 2022/07/14 入网时间 2022/09/29
主要规格及技术指标 1.配置3个靶位,尺寸2inc.
2.真空腔室最小压力:≤5X10-7mbar;
3.衬底加热温度500℃
4.射频电源:带有自动匹配电路,用于沉积绝缘体薄膜或者金属薄膜;
5.直流电源:通过溅射转换模块可分别控制任一磁控溅射靶,用于快速沉积金属薄膜。
6. 可实现两个磁控溅射靶共同沉积,同时也可实现在不破坏真空的条件下进行顺序溅射;
7. 配置薄膜厚度检测模块,可设定镀膜厚度及实时检测镀膜厚度;
8. 配置3路气路,Ar,N2,O2,每一路都有MFC进行自动控制;
• Up to 3 × 2” magnetron sputtering sources
• Up to 3 MFC-controlled process gases
• DC and/or RF power
• Fully automatic operation via touchscreen HMI
• Up to 4” diameter, or wide-area stages
• Sample heating option
• Base pressures < 5 × 10-7 mbar
• Define/save multiple process recipes
• Automatic pressure control option
• Easy servicing
• Comprehensive safety features
• Cleanroom compatible
• Proven performance"
主要功能及特色 溅射沉积制备高质量的单层膜或多层膜;
可以制备金属、半导体以及绝缘体薄膜;
通过调节溅射气氛,可制备出各种非化学计量比的化合物薄膜。


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类型

项目

细则

校内

校外

说明

自主上机

薄膜制备

1.对多种材料进行溅射;2.可进行Ar/N2/O2三种气氛溅射;3.基片温度控制室温-500℃4. 2英寸及以下尺寸的溅射镀膜

250/

/

AuPtPd等贵金属增加5/nm;特殊靶材请自带;

委托测试

薄膜制备

1.对多种材料进行溅射;2.可进行Ar/N2/O2三种气氛溅射;3.基片温度控制室温-500℃4. 2英寸及以下尺寸的溅射镀膜

400/

500/

校外AuPtPd等贵金属增加元10/nm;特殊靶材请自带;

培训

仪器培训

一对一/一对二培训;同等内容的第二次培训,收费1.5

400//

/

/

注:

(1)平台可提供靶材:Cu、Ag、Al、Ti、Ni、Al2O3、AlSi、Cr、Ta;贵金属靶有Au、Pt、Pd;平台靶材因操作失误到时损坏,需用户回购;

(2)允许用户自带靶材,若涉及靶材更换,换靶时间计入预约机时中。


联系地址:浙江杭州市西湖区墩余路600号

                     西湖大学云谷校区

邮    编: 310030

邮    箱:iscps@westlake.edu.cn

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